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      2. 產品詳情
        • 產品名稱:雙溫區CVD化學氣相沉積系統

        • 產品型號:CY-CVD-T
        • 產品廠商:成越科儀
        • 產品文檔:
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        簡單介紹:
        CVD(化學氣相沉積)氣相沉積系統是一種常用的薄膜制備技術,通過在高溫下將氣體反應物質與基底表面反應,形成薄膜
        詳情介紹:

        CVD(化學氣相沉積)氣相沉積系統是一種常用的薄膜制備技術,通過在高溫下將氣體反應物質與基底表面反應,形成薄膜。

         1. 反應室溫度:通常在幾百到千度之間,具體取決于所需的反應溫度和材料。

         2. 反應氣體:根據所需的薄膜材料和結構,可以使用不同的反應氣體,如氨氣、氫氣、氧氣、二氧化硅等。

         3. 壓力范圍:通常在幾百帕到幾千帕之間,具體取決于反應物質和反應條件。

         4. 反應時間:根據所需的薄膜厚度和質量,反應時間可以從幾分鐘到幾小時不等。

         5. 基底材料:CVD系統可以用于各種基底材料,如硅、玻璃、金屬等。

         6. 應用領域:CVD氣相沉積系統廣泛應用于材料科學和工程領域,用于制備各種功能性薄膜,如金屬薄膜、氧化物薄膜、氮化物薄膜、碳納米管等。它在半導體、光電子、能源、生物醫學等領域都有重要應用

        技術參數:

        射頻電

        信號頻率

        13.56MHz±0.005%

        功率輸出

        0~300W

        *大反射功率

        100W

        反射功率

        <3W (*大功率時)

        功率穩定性

        ±0.1%

        管式爐

        管子材質

        高純石英

        管子外徑

        100mm

        爐膛長度

        440mm

        加熱區長度

        200mm+200mm (雙溫區)

        連續工作溫度

        1100

        溫控精度

        ±1

        溫控模式

        30段程序控溫

        顯示模式

        LCD觸摸屏

        密封方式

        304 不銹鋼真空法蘭

        供氣系統

        通道數

        6通道

        測量單元

        質量流量計

        測量范圍

        通道: 0200SCCM, 氣體為H2  

        通道: 0200SCCM,氣體為CH4

        通道: 0200SCCM,氣體為 C2H4

        D通道: 0500SCCM,氣體為 N2

        E通道: 0500SCCM,氣體為 NH3

        F通道: 0500SCCM, 氣體為 Ar

        測量精度

        ±1.5%F.S

        工作壓差

        -0.15Mpa~0.15Mpa

        接頭規格

        1/4" 卡套接頭

        氣體混合罐

        1L

        真空系統

        機械泵

        雙極旋片泵

        抽速

        1.1L/S   

        真空測量

        電阻規

        極限真空

        0.1Pa

        抽氣接口

        KF16

        滑軌

        爐體可以滑動,實現快速降溫

        供電電源

        AC220V 50Hz



        豫公網安備 41019702002438號

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